2021年9月，中共中央、国务院印发了《知识产权强国建设纲要（2021－2035年）》（以下简称为“《纲要》”），《纲要》简要总结了党的十八大以来，在以习近平同志为核心的党中央坚强领导下，我国在知识产权领域取得的瞩目成就：“知识产权法规制度体系逐步完善，核心专利、知名品牌、精品版权、优良植物新品种、优质地理标志、高水平集成电路布图设计等高价值知识产权拥有量大幅增加，商业秘密保护不断加强，遗传资源、传统知识和民间文艺的利用水平稳步提升，知识产权保护效果、运用效益和国际影响力显著提升，全社会知识产权意识大幅提高，涌现出一批知识产权竞争力较强的市场主体，走出了一条中国特色知识产权发展之路，有力保障创新型国家建设和全面建成小康社会目标的实现”。更重要的是，在过往成就的基础上，《纲要》对于我国进入新发展阶段，如何回应新技术、新经济、新形势对知识产权制度变革提出的挑战，如何构建并实施知识产权强国战略，如何建设创新型国家和社会主义现代化强国提出了总体要求、发展目标及战略方向。《纲要》是新时代知识产权强国建设的纲领性文件，是顶层设计的强大政策驱动力。各地区各部门及各企业都应当结合实际认真学习并贯彻落实。
对于企业，《纲要》提出要：“完善以企业为主体、市场为导向的高质量创造机制。”“引导市场主体发挥专利、商标、版权等多种类型知识产权组合效应，培育一批知识产权竞争力强的世界一流企业。”“深化实施中小企业知识产权战略推进工程。”由此可见，制定知识产权战略对于企业发展至关重要。本期培训分为两个部分，第一部分为集成电路布图设计权、地理标志权、植物新品种权等其他知识产权介绍，第二部分为企业知识产权战略概述。

第一部分·其他知识产权


一
集成电路布图设计权
Intellectual Property
（一）概念
1、集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。
2、集成电路布图设计，是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。
3、集成电路布图设计权，是指自然人、法人或其他组织创作的集成电路布图设计，享有集成电路布图设计专有权。
（二）主体资格
1、中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，享有布图设计专有权。
2、外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，享有布图设计专有权。
3、外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，享有布图设计专有权。
（三）客体条件
1、受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果。
2、该布图设计应当具备一定的先进性，即在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。
（四）权利取得及保护期限
1、我国实行登记制度，即布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生。未经登记的布图设计不受法律保护。
2、布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受法律保护。
（五）权利内容及限制
1、权利包括：（1）复制权：对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制；（2）商业利用权：将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。
2、权利限制包括：合理使用、反向工程、